โฟโตลิโทกราฟี(foh-dtoh-lí-toh-graa-fee)
အဓိပ္ပာယ်များ
1နာမ်C1
အလင်းအသုံးပြုပုံဖော်နည်းပညာ (photolithography)
ကွန်ပျူတာချစ်ပ်များနှင့် အခြားအလွန်သေးငယ်သည့်ပစ္စည်းများ ပြုလုပ်ရန် အလင်းကို အသုံးပြု၍ အလွန်သေးငယ်သော ပုံစံများ ဖန်တီးသည့် နည်းပညာလုပ်ငန်းစဉ်။
ဥပမာများ
โฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeအလင်းအသုံးပြုပုံဖော်နည်းပညာ (photolithography)เป็นbpenเป็นbpen1တတ်သည်၊ လုပ်နိုင်သည် (စွမ်းရည်)2ရှိသည်၊ ခံစားရသည်၊ အခြေအနေတစ်ခုတွင် ရှိသည်3ဖြစ်သည် (လက္ခဏာ/အမျိုးအစား/အခြေအနေ)4ဖြစ်လာသည်เทคโนโลยีtêk-no-lo-yeeเทคโนโลยีtêk-no-lo-yee1နည်းပညာ2နည်းပညာ၊ နည်းပညာသုံးကိရိယာနှင့် စနစ်များสำคัญsăm-kanสำคัญsăm-kan1အရေးကြီးသော၊ အဓိကကျသော2ထင်မှတ်သည်၊ ယူဆသည် (မှားယွင်းစွာ)ในnaiในnai1၏၊ ပိုင်ဆိုင်သော၊ ဆိုင်သော2ထဲတွင်၊ အတွင်းပိုင်းတွင်3အတောအတွင်း၊ အတွင်း (အချိန်)การผลิตgaan pà-lìtการผลิตgaan pà-lìt1ထုတ်လုပ်မှု (စီးပွားရေး)2ထုတ်လုပ်မှု၊ ကုန်ထုတ်လုပ်ငန်း3ထုတ်လုပ်ရေး (မီဒီယာ/ ဖန်တီးမှု)ไมโครชิปmai-kroh-chípไมโครชิปmai-kroh-chípမိုက်ခရိုချစ်ပ်
Photolithography သည် မိုက်ခရိုချစ်ပ်များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အရေးကြီးသော နည်းပညာတစ်ခု ဖြစ်သည်။
နောက်ထပ် ဥပမာ 3 ခုလျှော့ပြပါ
ความก้าวหน้าkwaam gâao nâaของkŏngโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeทำtamให้hâiเราraoมีmeeคอมพิวเตอร์kom-piu-dtêrที่têeเล็กลงlék longและláeเร็วขึ้นreo kêun
Photolithography ၏ တိုးတက်မှုကြောင့် ကျွန်ုပ်တို့သည် ပိုမိုသေးငယ်ပြီး ပိုမိုမြန်ဆန်သော ကွန်ပျူတာများကို အသုံးပြုနိုင်ခြင်းဖြစ်သည်။
กระบวนการgrà-buan-gaanโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeแบบbàepใช้cháiรังสีอัลตราไวโอเลตrang-sĕe an-dtraa-wai-oh-lètเชิงลึกcherng léukEUVจำเป็นต้องjam bpen dtôngใช้cháiห้องปลอดเชื้อhông bplòt chéuuaที่têeมีmeeมาตรฐานmâat-dtrà-tăanสูงสุดsŏong sùt
Extreme Ultraviolet (EUV) photolithography လုပ်ငန်းစဉ်သည် အဆင့်မြင့်မားသော သန့်စင်ခန်း (cleanroom) လိုအပ်သည်။
ความท้าทายkwaam táa taaiหลักlàkของkŏngโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeคือkeuการลดขนาดgaan lót kà-nàatของkŏngลายวงจรlaai wong-jonลงlongเรื่อยๆrêuuai-rêuuaiในขณะที่nai kà-nà têeยังคงyang kongความแม่นยำkwaam mâen yamและláeลดlótอัตราการเกิดàt-dtraa gaan gèrtของเสียkŏng sĭia
Photolithography ၏ အဓိကစိန်ခေါ်မှုမှာ တိကျမှုကို ထိန်းသိမ်းပြီး ချို့ယွင်းချက်နှုန်းကို လျှော့ချရင်း ပတ်လမ်းပုံစံများ၏ အရွယ်အစားကို ဆက်တိုက်လျှော့ချရန်ဖြစ်သည်။