โฟโตลิโทกราฟี(foh-dtoh-lí-toh-graa-fee)

释义

1名词C1

光刻技术；光刻

利用光线生成微小图案的技术过程，常用于制造电脑芯片和其他微型器件。

例句

โฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-fee光刻技术；光刻เป็นbpenเป็นbpen1会；懂得（技能）2患有；遭受；处于某种状况3是；作为（身份/类别/状态）4成为；变成เทคโนโลยีtêk-no-lo-yeeเทคโนโลยีtêk-no-lo-yee1技术2科技；技术设备与系统สำคัญsăm-kanสำคัญsăm-kan1重要的；重大的；必不可少的2以为；假定（常指误认为）ในnaiในnai1……的；隶属于（正式）2在……里面；内部3在……期间การผลิตgaan pà-lìtการผลิตgaan pà-lìt1生产；产量（经济学）2生产；制造（工业）3制作（媒体/创意）ไมโครชิปmai-kroh-chípไมโครชิปmai-kroh-chíp微芯片；集成电路
光刻技术是微芯片生产中的一项重要技术。
还有 3 个例句
ความก้าวหน้าkwaam gâao nâaของkŏngโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeทำtamให้hâiเราraoมีmeeคอมพิวเตอร์kom-piu-dtêrที่têeเล็กลงlék longและláeเร็วขึ้นreo kêun
光刻技术的进步使我们能够拥有更小、更快的电脑。
กระบวนการgrà-buan-gaanโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeแบบbàepใช้cháiรังสีอัลตราไวโอเลตrang-sĕe an-dtraa-wai-oh-lètเชิงลึกcherng léukEUVจำเป็นต้องjam bpen dtôngใช้cháiห้องปลอดเชื้อhông bplòt chéuuaที่têeมีmeeมาตรฐานmâat-dtrà-tăanสูงสุดsŏong sùt
极紫外线 (EUV) 光刻工艺需要符合最高标准的无尘室。
ความท้าทายkwaam táa taaiหลักlàkของkŏngโฟโตลิโทกราฟีfoh-dtoh-lí-toh-graa-feeคือkeuการลดขนาดgaan lót kà-nàatของkŏngลายวงจรlaai wong-jonลงlongเรื่อยๆrêuuai-rêuuaiในขณะที่nai kà-nà têeยังคงyang kongความแม่นยำkwaam mâen yamและláeลดlótอัตราการเกิดàt-dtraa gaan gèrtของเสียkŏng sĭia
光刻技术的主要挑战是在保持精密度的同时不断缩小电路图案的尺寸，并降低缺陷率。